治疗白癜风的专科医院 http://www.xxzywj.com/m/二氟化氙下游应用范围广泛在化学气相刻蚀领域前景广阔 二氟化氙，也称为二氟代氙，化学式为XeF2，外观为无色透明晶体状，室温下易升华，有恶臭气味。二氟化氙遇水易分解，在中性或碱性溶液中也可分解，在酸性溶液中较为稳定，遇易燃物可燃烧，具有强氧化性，并可使多种有机化合物、无机化合物氟化。
二氟化氙制备是以氙、氟为原料，在加热条件下反应制得，主要用作氧化剂、氟化剂。二氟化氙是氟化氙的一种，与四氟化氙、六氟化氙相比，二氟化氙氧化性及氟化性较为温和，安全性较好。 在水溶液中，二氟化氙起到氧化剂作用，例如，二氟化氙可以与溴酸钠发生反应生成高溴酸钠。在非水溶液中，二氟化氙起到氟化剂作用，具有选择性好的优点，被广泛应用在有机氟化物、无机氟化物制备方面，并且二氟化氙作为氟化剂使用一般会释放出氙，氙可回收再利用制成二氟化氙，循环经济效应好。 除氧化剂与氟化剂外，二氟化氙还可以应用在核工业中，例如与氧化铀反生反应分离出铀-。二氟化氙也可以应用在新材料制备方面，例如生产氟氮双掺氧化石墨烯、红外荧光氮掺杂石墨烯、氟掺杂螺旋碳纳米管等。 根据新思界产业研究中心发布的《-年二氟化氙行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，在化学气相工艺中，二氟化氙也作为氟化剂使用，可对硅表面进行刻蚀，可制备二氟化氙气相刻蚀阻挡层，也可以与无水氟化氢配合使用去除硅表面牺牲层。二氟化氙气相刻蚀是一种非等离子刻蚀技术的微电子刻蚀技术，具有良品率高、成本较低的优点，主要应用在MEMS（微机电系统）蚀刻工艺中。 年，MEMS生产商Xactix公司、半导体制造商STS公司宣布推出面向MEMS生产的刻蚀设备，其采用二氟化氙实现高选择比各向同性刻蚀。除MEMS以外，二氟化氙刻蚀设备还可以应用在材料科学领域，除刻蚀硅材料外，还可以化学气相刻蚀锗、钼等材料。 新思界行业分析人士表示，MEMS下游可应用范围广泛，包括医疗设备、工业设备、汽车电子、消费电子等多个领域。年，全球MEMS市场规模约为亿美元，预计到年将增长至亿美元左右，年均复合增长率为7.0%。中国是全球最大的汽车、消费电子生产国，工业自动化、智能化转型速度加快，对MEMS的需求更为旺盛。由此来看，未来二氟化氙在化学气相刻蚀领域市场前景广阔。